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中文名：RIE_新 |
英文名：RIE |
仪器型号：SI 591 |
设备分类：刻蚀设备 |
房间：D115 |
负责人：杨 凡/李 攀 |
生产厂家：
Sentech
仪器介绍：
反应离子刻蚀机SI 591，能实现高选择比刻蚀
主要功能：
氧化硅刻蚀，光刻胶去除，二维材料刻蚀，石墨烯刻蚀
技术指标：
样品最大支持8英寸，兼容小片。
气体种类： O2、CHF3、Ar、H2、CH4、Cl2
射频功率600W（13.56MHz）。
温度范围-20℃~80℃。
价格：
校内：400元/60分钟
校外：600元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：2023年
状态：正常
设备大图：
