高性能原子力显微镜 Nanosurf Flex-Mount AFM具有多种应用模式和高级功能。这款显微镜设计通用、配置灵活且用户友好，适用于不同学科的研究人员。探测物质表面或界面在纳米尺度上表现出的物理和化学性质。

电子束离子束双束电镜系统 SOLARIS GMH 具有较高分辨率，能进行各种固态样品表面形貌的二次电子像、背散射电子像观察及图像处理，可对材料进行微纳米表征、微纳加工和TEM样品定点制备等。

椭偏仪RC2（生产厂家：美国J. A. WOOLLAM公司）是一种探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。已知入射光的偏振态，偏振光在样品表面被反射，测量得到反射光的偏振态、幅度、相位，拟合得出材料的折射率和消光系数等光学常数信息。

傅立叶变换红外光谱仪 VERTEX 80v 基于对干涉后的红外光进行傅里叶交换的技术，主要用于测试固体薄膜样品的透过率或吸光度随波数变化的红外吸收光谱图。

可用于光学涂层、光纤滤光片、半导体、高吸收率玻璃、纳米光学材料等各领域的光谱特性分析。主要用于测试薄膜样品的吸光度、透射率、反射率，配置100mm积分球附件，实现样品漫反射测试。

XRD（X Pert Pro MRD） 利用衍射原理，对材料进行x射线衍射，分析衍射图谱，来获得测定物质的成分，晶体结构，织构及形态等。

名称扫描探针显微镜型号Veeco   NanoScope MultiMode制造商美国Veeco主要功能提供起伏1微米以下样品的二维和三维形貌分析特性技术指标分辨率：横向0.26nm， 垂直1nm（以云母晶体标定）样品尺寸：最大可达直径12mm，厚度8mm  

探针式表面台阶测试仪（台阶仪）DEKTAK-XT测量原理：当触针沿被测表面轻轻滑过时，由于表面有微小的峰谷使触针在滑行的同时，还沿峰谷作上下运动。触针的运动情况就反映了表面轮廓的情况。

名称电化学电容电压剖析仪ECV型号dage WAFER PROFILER CVP 21制造商德国Wep科技公司主要功能采用电化学腐蚀的方法，对半导体Wafer材料进行深度-载流子浓度的测试。技术指标主要应用范围为GaAs及InP系材料，对GaN材料腐蚀较慢。最佳测试范围：载流子浓度量级1015~1020/cm

名称钨灯丝SEM型号EVO-10制造商蔡司主要功能形貌分析技术指标分辨率：二次电子：3nm（30kv）；背散射电子像：4.5nm（30kv