快速访问通道
学校首页
设备预约情况
立即预约
安全培训及在线考试
English Version
首页
平台简介
平台介绍
组织机构
办公电话
联系我们
服务指南
财务资料
设备共享
设备简介
清洗设备
光刻设备
薄膜沉积
刻蚀设备
封装设备
抛光设备
测试设备
新闻公告
平台新闻
学术交流
通知公告
人员队伍
教授委员会
管理团队
工艺设备组
动力保障组
行政办公组
科学研究
科研成果
科研项目
科研奖励
科研平台
资料下载
预约系统
在线安全考试
资料下载
安全管理
在线安全考试指南
预约系统指南
管理规定
资料下载
Open Menu
首页
平台简介
返回
平台介绍
组织机构
办公电话
联系我们
服务指南
财务资料
设备共享
返回
设备简介
清洗设备
光刻设备
薄膜沉积
刻蚀设备
封装设备
抛光设备
测试设备
新闻公告
返回
平台新闻
学术交流
通知公告
人员队伍
返回
教授委员会
管理团队
工艺设备组
动力保障组
行政办公组
科学研究
返回
科研成果
科研项目
科研奖励
科研平台
资料下载
预约系统
在线安全考试
资料下载
返回
安全管理
在线安全考试指南
预约系统指南
管理规定
资料下载
设备共享
设备简介
清洗设备
光刻设备
薄膜沉积
刻蚀设备
封装设备
抛光设备
测试设备
测试设备
当前位置:
首页
>
设备共享
>
测试设备
26
2021-05
高分辨透射电子显微镜
名称高分辨透射电子显微镜型号Tecnai G2 20 U-Twin制造商美国FEI公司主要功能形貌分析:获得非晶材料的质厚衬度像,多晶材料的衍射衬度像和单晶薄膜的相位衬度像(原子像)。结构分析:电子衍射,原子位错,孪晶类型,晶界结构等研究。成分分析:小到纳米尺度的微区或晶粒的成分分析。技术指标1.LaB6灯丝或钨灯丝2.点分辨率U-TWIN 0.19nmS-TWIN 0.24nm ; TWIN 0.27nm3.加速电压 20-200kV,连续可调4.放大倍数 25x - 1100kx5.样品...
26
2021-05
热场发射扫描电镜
名称热场发射扫描电镜型号Nova NanoSEM 450 FP2053/45制造商捷克FEI公司主要功能以波长极短的电子束聚焦后在样品表面扫描,接收从样品表面激发出的二次电子信号成像。主要用于观察固体表面的形貌,也能与EBSD或电子能谱仪相结合,构成电子微探针,用于物质成分分析。此电镜可对导电率小的材料分析, 还可进行环境气氛下材料研究。技术指标分辨率: 高真空成像,0.8 nm @ 30kV (STEM) 1.0 nm @ 15 kV (TLD-SE) 1.4 nm @ 1 kV...
26
2021-05
扫描电镜/聚焦离子束电镜系统(SEM/FIB)
名称扫描电镜/聚焦离子束电镜系统型号Quanta 3D FEG SEM/FIB制造商美国FEI公司主要功能SEM/FIB双束系统主要用于在金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构。同时,配备纳米机械手之后,可以定点制备TEM样品,此仪器是探索决定物质表观特性微观本质的强有力工具。技术指标FIB最大束流达到65nA扫描电镜电子束流最大200nA环境扫描(ESEM)技术: 高真空, 低真空和环境真空三种真空模式1kV分辨率(高真空) 2.9nm...
首页
上页
1
2
下页
尾页
到第
页
跳转
Copyright © 2021 武汉光电国家研究中心微纳工艺与表征平台