 |
中文名：EVG紫外曝光机 |
英文名：EVG Lithography System |
仪器型号：EVG620NT |
设备分类：光刻 |
房间：D区1楼 |
负责人：李 攀 |
生产厂家：
奥地利EVG
仪器介绍：
EVG 620NT是一款通用性和可靠性极强的光刻机，提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置，满足大批量生产和Fab标准。
主要功能：
光刻及键合前的晶圆对准。
技术指标：
手动上片支持硬接触，软接触，接近及真空接触曝光模式；
光刻最大支持4吋基片，预键合对准2，3，4吋圆片；
UV-LED光源（包含I-line(365nm)，H-line(405nm)以及G-line(436nm），光强均匀度：≤ 4％，曝光分辨率≤ 0.8μm；
双面可见光对，准精度正面±0.5μm，背面±1μm。
