发布人：李攀 发布时间：2021-05-26 点击：
中文名：纳米压印
英文名：Nano Imprint Lithography
仪器型号：EITRE® 3
设备分类：光刻设备
房间：D区1楼
负责人： 李 攀
生产厂家：
瑞典Obducat
仪器介绍：
传统光刻技术是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。NIL技术却可以不使用电子和光子，直接利用物理机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。鉴于其技术优势，NIL可应用于微电子器件、信息存储器件、微反应器、微/纳机电系统、传感器、微/纳流控器件、生物医用界面、光学及光子学材料等众多领域。
主要功能：
高精度纳米压印。
技术指标：
紫外压印、热固化压印，最大3英寸。
其它细节图/成品图：
设备大图：
Copyright © 2024 华中科技大学 先进微纳加工中心
