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中文名：无掩模光刻机 |
英文名：Maskless lithography machine |
仪器型号：苏大维格 MicroLab Ⅲ |
设备分类：光刻设备 |
房间：D113 |
负责人：郑盼盼/黄 光/张广学 |
生产厂家：
苏大维格
仪器介绍：
无掩膜光刻机采用405nmLED紫外光源和DMD数字微镜直写曝光，可以用于掩模板制作，亚微米及以上任意2D图案曝光和128级3D灰度曝光。
主要功能：
采用405nm光源实现任意2D图案曝光和128级3D灰度曝光
技术指标：
1、 最大基板尺寸：5” x 5”
2、最大写入面积：100 x 100mm⟡
3、基板厚度：0- 15 mm
4、LED波长：光源波段405nm，输出功率：960mw
5、最小分辨率/结构尺寸：0.5μm， 最小线宽间距： 1μm
6、套刻对淮精度(>5x5mm2) [3σ, μm] ≤0.5；套刻对淮精度(>50x50mm2) [3σ, μm] ≤1
7、写入速度: 80mm⟡/min at 2μm
8、数据格式:DXF，CIF，GDSII 设备支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光多种曝光模式，阵列模式，支持128 阶3D灰度光刻。
注意事项：
1、目前常用GDS、8位BMP（灰度曝光用）格式文件导入图形，需使用微纳平台专用U盘导入设备，不得将个人U盘插在设备上。
2、第一次使用设备会有工程师进行培训，如果不会使用设备禁止私自操作设备。
2、聚焦过程镜头接近样片时移动速度不超过0.01mm/s，禁止镜头撞到样片。。
价格：
校内：450元/60分钟
校外：650元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：
状态：正常
设备大图：
