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中文名：电子束曝光系统 |
英文名：EBL |
仪器型号：Vistec EBPG 5000plus ES |
设备分类：光刻 |
房间：D113 |
负责人：尚成林 |
生产厂家：
Vistec
仪器介绍：
Raith EBPG 5000+ 是一款专用的直写电子束图案发生器，用于通过高分辨率电子束光刻技术对大面积区域进行图案化。可曝光2寸，3寸，4寸及非标准小片。该仪器可以设置为在 20、50 或 100 kV 下运行，但通常设置为 100 kV 运行。
主要功能：
用于在电子束光刻胶上曝光形成高精度图形。
技术指标：
加速电压： 100kV
电子束最小束斑：2.2nm
加工精度：<8nm线条
拼接精度：<20nm@250微米写场@100kV
最大写场大小：260μm *260μm
电子束流：0.1nA至100nA
直写样片尺寸：2寸，3寸，4寸，非标准小片
注意事项：
预约规则：每天预约8片，其中套刻不超过4片，同一个项目负责人EBL一天内预约样片总数不能超过4片。每天上午预约不超过5片，其中上午8点到10点最多约2片，上午10点到12点最多约3片。为保证10点可预约，预约系统中8点半前开始的EBL实验不能超过10点结束。
价格：
曝光时长 ：校内1000元/h，校外1400元/h（不足0.5小时算0.5小时，以此类推）
助管人工费 ：每个样片加收0.5*1000的人工费
套刻：每片300元
PEC ： 100元
SOI : 每1.5cm*1.5cm 200元
光刻胶AR-P6200系列 ：每1.5cm*1.5cm 150元
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：
状态：正常
其它细节图/成品图：
设备大图：
