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中文名：MA8 BA8紫外曝光机 |
英文名：Double-sided Mask Aligner |
仪器型号：MA8 BA8 |
设备分类：光刻设备 |
房间：D区1楼 |
负责人：黄 光/张广学 |
生产厂家：
SUSS
仪器介绍：
MA8 BA8紫外曝光机可实现双面对准和接触式曝光功能。
主要功能：
光刻机照射出紫外光，通过具有图形的掩膜版，对涂有光刻胶的晶圆曝光，利用感光后的光刻胶在溶液中的溶解速度不同实现图形转移。通过控制光强和时间，将掩模版上的图案曝光在旋涂好的光敏材料上，显影后实现将图案转移到基底上。
技术指标：
曝光分辨率0.7微米，套刻精度正面0.3微米，背面0.5微米。光刻机/双面对准/最低分辨率0.7微米/加工尺寸：碎片-8英寸
加工2英寸以下的碎片和2/4/6/8英寸圆片；
支持软接触/硬接触/接近/真空等曝光模式；
光强均匀性（8英寸内）优于2.5%；
波长：350-450纳米；
显微物镜：5倍，10倍。
最高分辨率： 0.7微米
正反面对准精度：背面 小于1.0微米，正面小于0.5微米
曝光面积：8英寸
背面对准：可见光 曝光
均匀性：8英寸范围内小于2.5%
曝光模式：软接触，硬接触，真空接触，接近式 具有计算机辅助对准的功能。
价格：
校内：600元/60分钟
校外：800元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
状态：正常
设备大图：
