薄膜沉积
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反应离子束薄膜沉积设备Denton Discovery HDG

发布人:许 蔚    发布时间:2024-10-30     点击:

       

中文名:反应离子束薄膜沉积设备

英文名:IBD

仪器型号:Discovery HDG

设备分类:薄膜沉积

房间:D117

负责人:徐 巍


生产厂家:

美国Denton Vacuum LLC

仪器介绍:

离子束沉积IBD(Ion Beam Deposition)是一种薄膜沉积工艺,也称为离子束溅射(Ion Beam Sputtering,简称IBS)。这种工艺使用离子源将靶材(金属或电介质)沉积或溅射到基片上,以形成金属或电介质膜。

离子束沉积的关键特性之一是离子束的等能性和高度准直性。这使得离子束沉积能够精确地控制薄膜的厚度,并沉积出非常致密的高质量薄膜,在材料科学、电子工程、光学和其他领域中有广泛的应用。

主要功能

溅射/刻蚀工艺

技术指标

1、溅射源:Veeco公司6cm双栅网(铝)射频离子源及电源;三路进气控制(20sccm,  2个10sccm)  ;

2、清洗/刻蚀源:Veeco公司16cm三拥网(铝)射频离子源及电源水冷型靶材支架,可安装4个直径5英寸靶材;旋转8英寸工件盘,绑定1个直径6英寸无氧铜片,可背面加热至500度,单路Speedflo反应气体反馈控制系统。

3、离子能量:100 eV to 2000 eV连续可调,在直径6英寸范围内薄膜均匀性优于±1.5%,镀膜重复性优于±1.5%;在直径6英寸范围内刻蚀均匀性优于±5%,刻蚀重复性优于±3价格:

校内:800元/60分钟

校外:1000元/60分钟

单位预约时间:60(单位:分钟)

设备上线时间:2011年11月

状态:正常


工艺照片:

  

设备大图:


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