光学镀膜机OTFC-900 DBI

生产厂家：

日本Optorun

仪器介绍：

OTFC系列是用于生产红外截止滤光片、分色滤光片等成膜的真空镀膜装置。

主要功能：

介质膜及金属膜光学元件镀膜。

设备参数：

真空室尺寸：直径 900mm，高度 1345mm

粗抽真空：从大气压到 10Pa，10min 以内

极限真空：低于 7.0E-5Pa

最大设定温度: 摄氏 350℃ 加热 40 分钟以内，能到达摄氏 300℃

基板旋转旋转机构（光学监控和水晶控制一体式）中心驱动

旋转速度调整范围: 10～30rpm

DOME 尺寸：φ790mm*SR870

可使用衬底尺寸：8英寸圆片向下兼容

双枪双坩埚：环状坩埚机构：φ302×φ228×H15mm 环状、材质 Cu

坩埚旋转速度：10min/圈～130min/圈

点式坩埚机构：12 点点坩埚式、材质 Cu 1 坩埚衬圈：外径 φ40×H17mm、材质 Cu

射频离子源：（OPTORUN 制：OIS-Four,10cm）栅网尺寸：10cm

最大射频功率：600W（13.56MHz）

束电圧：100V～1500V 最大束电流：500mA

离子流密度分布：±10%以内（在 OPTORUN 的设定条件内）

加速电压：100V～1000V

标准导入气体量：氧气 30sccm 或氩气 15sccm 2)

射频中和器(OPTORUN 制： RFN-1Af)

最大射频功率：150W（13.56MHz）

最大中和電流：1500mA

标准导入气体量：氩气 8sccm

配备60点光学监控和6点水晶监控

工艺参数：

蒸镀材料  ： TiO2（OS50）/SiO2

基板        ： BK7，φ30mm

成膜内容  ： 16层 Edge Filter(SWPF),λ(T=50%) 550nm

波长漂移  ： T=50% ±5.0nm以内

测试点     ： 沿着半径方向均匀选用4个测试点

成膜条件  ： 离子辅助IAD

光谱均匀性：±1%。

可见光波长范围内(420-700nm)AR膜平均反射率＜0.4%

单层TiO2:波长390~1000nm, 折射率n:2.67~2.27

单层SiO2:波长390~1000nm, 折射率n:1.49~1.46

价格：

校外：700元/60分钟

校内：1000元/60分钟

单位预约时间：1小时起约

状态：正常