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中文名：低压化学气相沉积系统 |
英文名：LPCVD |
仪器型号：MINI TYTAN4600 |
设备分类：薄膜沉积 |
房间：D115 |
负责人：方 程/张广学 |
生产厂家：
TYSTAR USA
仪器介绍：
LPCVD是用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并沉积形成稳定固体薄膜。由于工作压力低，气体分子的平均自由程和扩散系数大，并在衬底表面获得均匀性良好的薄膜淀积层。平台此台LPCVD配有四根炉管，分别用于用于沉积 SiO2（干氧、湿氧）、Si3N4、 Poly-Si。
主要功能：
第一管：湿法氧化 & N2 ANNEAL退火，第二管：干法氧化 & N2 ANNEAL退火，第三管：化学计量比氮化硅 & 低应力氮化硅，第四管：多晶硅 & 非晶硅。
技术指标：
样品舟为4英寸，6英寸。恒温区45cm，单管最多容纳2舟，单舟放置25片；温度控制采用前馈算法，3点式R型内热电偶用于炉管温度控制，外热偶控温和功率测量控温用于备份控温；控温精度：≤±0.5℃@250℃-1250℃，温度分辨率：0.1℃。
注意事项：
本说明针对LPCVD标准工艺，每管承载一个石英舟，每石英舟承载25片4英寸、6英寸标准晶圆，气流稳定，以保障工艺重复性。关于碎片工艺：公共平台已扩展碎片舟托，因气流扰动，因需根据样品形状、舟内排布气流分布差异，碎片成膜速率需各自定测。
价格：
校内：1074元/60分钟
校外：1470元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：2007年
状态：正常
设备大图：
