薄膜沉积
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8英寸磁控溅射镀膜机

发布人:许 蔚    发布时间:2022-10-26     点击:

       

中文名:8英寸磁控溅射镀膜机

英文名:Magnetron Sputtering Coating Machine

仪器型号:JCPY600

设备分类:薄膜沉积

房间:D区1楼

负责人:黄 光/张广学


生产厂家:

北京泰科诺科技有限公司

仪器介绍:

进行薄膜新材料的科研与小批量制备

主要功能

平台提供以下材料的靶材:Al、Cr、Ni-Cr(80Ni:20Cr wt%)、Ti、Cu、SiO2、W。其他材料请自备靶材

技术指标

样品托盘为8英寸,4英寸。溅射面积最大为8英寸。靶材尺寸为直径100毫米。现有靶材Cr。气体:氩气,氧气,氮气。溅射方式:直流/射频。4靶位。衬底可加热500℃

价格:

校内:400/60分钟

校外:600/60分钟

单位预约时间:30(单位:分钟)


设备大图:

                           

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