薄膜沉积
当前位置:首页 - 仪器设备 - 薄膜沉积 -  正文

磁控溅射镀膜机

发布人:李攀    发布时间:2021-05-24     点击:

       

中文名:磁控溅射镀膜机

英文名:Magnetron Sputtering Coating Machine

仪器型号:JCPY500

设备分类:薄膜沉积

房间:D区1楼

负责人: 光/张广学


生产厂家:

北京泰科诺科技有限公司

仪器介绍:

进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

主要功能

溅射方式:直流/射频;3靶位;可加热。

技术指标

样品托盘为6英寸,溅射面积最大为4英寸;

靶材尺寸为直径75毫米,现有靶材:Al/Ti/镍铬合金;

气体:氩气/氧气。

价格:

校内:400元/60分钟

校外:600元/60分钟

单位预约时间:30(单位:分钟)


设备大图:

                           

                           

Copyright © 2024 华中科技大学 先进微纳加工中心