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中文名：等离子增强化学气相沉积 |
英文名：PECVD |
仪器型号：Oxford PlasmaPro 800 Stratum |
设备分类：薄膜沉积 |
房间：D区1楼 |
负责人：徐 巍/方 程 |
生产厂家：
牛津仪器
仪器介绍：
PlasmaPro 800 为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积 （PECVD） 工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统，可实现大型晶圆大规模的批量生产和 300mm 晶圆处理。
主要功能：
等离子增强化学气相沉积，温度范围20-400℃
气体：5%SiH4/95%N2、N2O、NH3、80%CF4/20%O2，LF、HF双射频。
技术指标：
1、100℃的工艺需在前1天下班时告知工程师或助管降温，在第二天早上预约（降温需要4个小时）。
2、材料氧化硅、氮化硅、氮氧化硅，托盘直径46cm。
注意事项：
从第二片开始每加一片增加100元。
价格：
校内：500元/60分钟
校外：647元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：
状态：正常
其它细节图/成品图：
设备大图：
