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中文名：ICP-旧Ⅲ-Ⅴ族 |
英文：Inductively coupled plasma etching machine |
仪器型号：PlasmaPro System 100 |
设备分类：刻蚀设备 |
房间：D115 |
负责人：李 攀/杨 凡 |
生产厂家：
牛津仪器
仪器介绍：
主要基于等离子体进行材料干法刻蚀，用于三五族，金属掩膜Cr，超表面材料的刻蚀
主要功能：
三五族材料，氧化钛，金属Cr和Al的刻蚀
技术指标：
Plasmalab system 100 ICP 180；气体：Cl2\BCl3\CH4\H2\SF6\CF4\Ar\O2
4英寸及以下。0-20℃。材料：Al\Ga\In\N\P\As\SiO2\SiN\Cr\PDMS,掩膜：Cr、PR、SiO2
价格：
校内：653元/60分钟
校外：865元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：2009年
状态：正常
设备大图：
