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中文名：ICP_硅 |
英文名：ICP_ silicon |
仪器型号：PlasmaPro System 100 |
设备分类：刻蚀设备 |
房间：D115 |
负责人：李 攀/杨 凡 |
生产厂家：
牛津仪器
仪器介绍：
基于等离子体进行材料干法刻蚀。用于Si材料刻蚀。 如：220nmSOI、浅硅等，多种氧化硅刻蚀程序。
主要功能：
Si刻蚀，氧化硅刻蚀
技术指标：
感应耦合等离子硅刻蚀系统|Oxford Plasmalab system 100 ICP 180；气体：CHF3\SF6\C4F8\Ar\O2
价格：
校内：666元/60分钟
校外：881元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：2011年
状态：正常
设备大图：
