微纳工艺与表征平台学术论文奖励暂行办法
为了进一步促进光电子微纳制造工艺平台大型仪器设备的开放共享，提高光电子微纳制造工艺平台的科研服务能力与水平，现对在光电子微纳制造工艺平台进行科研实验并发表的学术论文，制定奖励暂行办法，细则如下。
1. 奖励对象
使用光电子微纳制造工艺平台开放共享仪器设备进行科研实验，在统计年度里发表，并在致谢部分致谢光电子微纳制造工艺平台的SCI学术论文（已正式出版的）。作者可以是教师、学生或微纳平台其他用户。
2. 奖励标准
微纳平台根据论文的数量、分类和影响因子，每年度制定相应的奖励标准。2022年论文奖励标准为：
|
影响因子 |
Nature/Science/Cell及其大子刊 |
IF>10 |
5<IF<10 |
2<IF<5 |
奖励（元） |
10000 |
2000 |
1000 |
500 |
论文分级及影响因子以下列网站查找信息为基础：http://www.letpub.com.cn/，并参照“华中科技大学学术期刊分类目录”执行。
3. 论文统计及奖励时间：
每年1月份统计上一年度的致谢论文，奖励费用原则上在每年3月份内发放完毕，请将正式发表的论文在微纳平台预约系统提交。审核通过后，致谢论文的奖励作为实验工艺费划入团队或个人的微纳平台工艺费账户中。
4. 致谢格式及奖励方式：
在致谢中感谢平台工程师并提及相应设备，以微纳加工（或XRD测试）为例: Thanks engineer xxx in the Center of Optoelectronic Micro&Nano Fabrication and Characterizing Facility, Wuhan National Laboratory for Optoelectronics of Huazhong University of Science and Technology for the support in device fabrication（XRD test）.
中文论文致谢内容：
感谢华中科技大学武汉光电国家研究中心微纳工艺与表征平台XXX工程师在器件加工（XRD测试）上的支持和帮助。
本暂行办法自2022年开始执行。
微纳工艺与表征平台
2022年3月10日
