微纳平台将于近期开展微纳工艺技术培训，请有需要的同学积极报名参加。
具体培训计划安排如下：
| 序号 |
培训课程 |
培训内容简介 |
授课老师 |
培训日期 |
培训时间 |
培训时长(分钟） |
培训地点 |
| 1 |
超净间厂务基础知识 |
超净间动力系统及附属设施简介、超净间行为规范、水电气使用注意事项 |
桑池斌 |
2024年4月11日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 2 |
光刻工艺 |
步进式光刻、无掩模光刻与接触式光刻 |
郑盼盼 |
2024年4月18日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 3 |
电子束曝光、封装工艺 |
电子束光刻常见问题，划片、引线键合等封装工艺原理 |
尚成林 |
2024年4月25日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 4 |
干法刻蚀工艺 |
干法刻蚀工艺原理 |
李攀 |
2024年5月9日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 5 |
干法刻蚀案例分析 |
干法刻蚀案例及常见问题分析 |
杨凡 |
2024年5月16日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C115 |
| 6 |
化学气相沉积工艺 |
脊波导激光器芯片工艺简介 |
李志雯 |
2024年5月23日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 7 |
离子束刻蚀及溅射工艺 |
金属有机物化学气相沉积原理与应用 |
徐巍（大） |
2024年5月30日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 8 |
原子层沉积及电子书蒸发工艺 |
电子束蒸发与原子层沉积工艺原理 |
徐巍（小） |
2024年6月6日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 9 |
磁控溅射工艺 |
磁控溅射操作方法及常见问题 |
张广学/黄光 |
2024年6月13日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 10 |
原子力显微镜与椭偏仪 |
原子力显微镜与椭偏仪 |
许蔚 |
2024年6月20日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 11 |
电子显微镜的基本原理与应用 |
电子显微镜的基本原理与应用 |
苏俊 |
2024年6月27日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
| 12 |
微纳平台建设与光电子集成工艺 |
微纳平台建设与光电子集成工艺 |
黄庆忠 |
2024年7月4日 |
9:00 |
90 |
新光电大楼C111 |
如有变更，以实际情况为准。
报名方式：
【腾讯文档】微纳平台工艺培训课程预约
https://docs.qq.com/form/page/DYUdlWHdGZ1dKVXBU
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