快速访问通道
学校首页
设备预约情况
立即预约
安全培训及在线考试
English Version
首页
平台简介
平台介绍
组织机构
办公电话
联系我们
服务指南
财务资料
设备共享
设备简介
清洗设备
光刻设备
薄膜沉积
刻蚀设备
封装设备
抛光设备
测试设备
新闻公告
平台新闻
学术交流
通知公告
人员队伍
教授委员会
管理团队
工艺设备组
动力保障组
行政办公组
科学研究
科研成果
科研项目
科研奖励
科研平台
资料下载
预约系统
在线安全考试
资料下载
安全管理
在线安全考试指南
预约系统指南
管理规定
资料下载
Open Menu
首页
平台简介
返回
平台介绍
组织机构
办公电话
联系我们
服务指南
财务资料
设备共享
返回
设备简介
清洗设备
光刻设备
薄膜沉积
刻蚀设备
封装设备
抛光设备
测试设备
新闻公告
返回
平台新闻
学术交流
通知公告
人员队伍
返回
教授委员会
管理团队
工艺设备组
动力保障组
行政办公组
科学研究
返回
科研成果
科研项目
科研奖励
科研平台
资料下载
预约系统
在线安全考试
资料下载
返回
安全管理
在线安全考试指南
预约系统指南
管理规定
资料下载
资料下载
安全管理
在线安全考试指南
预约系统指南
管理规定
资料下载
管理规定
当前位置:
首页
>
资料下载
>
管理规定
15
2022-09
加班申请单
申请须知:1、非工作时间必须提前提交纸质加班申请,并通过工程师或助管在预约系统预约所用的设备。没有用到仪器设备的,需要自行预约“超净间”方可进入平台。2、进入平台必须两人同行,同时进出。不得在申请时间之外使用超净间。3、用到通风橱、匀胶机的,必须提前告知动力值班人员,打开排风系统和真空系统。4、未经许可,不准使用未申请加班的仪器设备。5、未经许可,禁止进入特气间、动力站等区域。6、废液倾倒前,需确认...
21
2021-07
微纳工艺与表征平台管理制度
l 目的保持微纳工艺与表征平台区域内洁净度符合半导体工艺的基本要求,避免颗粒的污染;保障所有设备的长时间稳定运行;保证各项研发工艺质量。l 范围微纳工艺与表征平台区域。 1.进出超净工艺间登记制度1.1除微纳工艺与表征平台专职工作人员外,任何人进出超净工艺间必须在值班员处按要求登记,登记后由值班员发放更衣柜钥匙;1.2对未进行登记私自进入超净工艺间的人员,一旦查出将给予严重警告,累计不登记达三次者,将取消...
首页
上页
1
下页
尾页
到第
页
跳转
Copyright © 2021 武汉光电国家研究中心微纳工艺与表征平台