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中文名：500纳米精度步进光刻机 |
英文名：500nm Resolution Wafer Stepper |
仪器型号：Nikon NSR-2005i9C |
设备分类：光刻设备 |
房间：D113 |
负责人：郑盼盼 |
生产厂家：
Nikon
仪器介绍：
Nikon NSR-2005i9C投影式步进光刻机
主要功能：
NIKON NSR-2005i9C采用曝光光源i-line（365nm波长），把掩膜版上的图形按照5:1比例缩小复制到旋涂有光刻胶的晶圆上，实现投影缩放步进式重复曝光。
技术指标：
1、最高分辨率：500nm
2、掩模版尺寸：5英寸
3、缩放比例：5：1
4、曝光均匀性：≤1.75%
5、套刻精度：±150nm
注意事项：
1、掩模版上需要设计设备识别的对位标记，详情咨询工程师。
2、基片尺寸暂定为2mm*2mm-3mm*3mm以及2英寸晶圆的1/4片，其它尺寸咨询工程师。
价格：
校内：800元/60分钟
校外：1000元/60分钟
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：
状态：正常/保养中/维修中/未开放
设备大图：
