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中文名:EVG紫外曝光机 |
英文名:EVG Lithography System |
仪器型号:EVG620NT |
设备分类:光刻 |
房间: |
负责人:李攀 |
生产厂家:
奥地利EVG
仪器介绍:
EVG 620NT是一款通用性和可靠性极强的光刻机,提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置,满足大批量生产和Fab标准。
主要功能:
光刻及键合前的晶圆对准。
技术指标:
手动上片支持硬接触,软接触,接近及真空接触曝光模式;
光刻最大支持4吋基片,预键合对准2,3,4吋圆片;
UV-LED光源(包含I-line(365nm),H-line(405nm)以及G-line(436nm),光强均匀度:≤ 4%,曝光分辨率≤ 0.8μm;
双面可见光对,准精度正面±0.5μm,背面±1μm。