优秀机组：武汉光电国家研究中心“等离子增强化学气相沉积系统”机组,成员:李攀、李志雯、徐巍、桑池斌、苏俊。
一、仪器信息
等离子增强化学气相沉积，温度范围20-400℃。
气体：5%SiH4/95%N2、N2O、NH3、80%CF4/20%O2
功能：LF、HF双射频，沉积半导体⼯艺中的SiO2、SiNx绝缘层、介质膜，⽤于器件⼯艺中的掩膜制作、以辅助微纳米级线宽⾼质量的⼲法刻蚀⼯艺；沉积绝缘层、阻隔层以辅助制作光电⼦器件中的电流注⼊通道等⽤途。
氧化硅镀膜质量：膜厚均匀性±0.37%，折射率1.46。
氮化硅镀膜质量：膜厚均匀性±0.35%，折射率1.98
8英寸硅片镀膜质量高、均匀性好
该设备能够满足光电子、微电子、微机电系统等方向的绝缘膜、介质膜、光学膜的科研镀膜需求，该设备在华中科技大学大型仪器设备使用效益考核工作中表现突出，获评“优秀机组”称号。
二、设备共享管理
定期对设备进行维护保养
该设备由微纳工艺与表征平台统一管理，专人负责维护，定期保养，确保设备处于良好的状态。该设备面向校内外开放共享，通过网上预约的方式进行机时管理，方便校内外用户使用。微纳工艺与表征平台是一个公共服务平台，向全国社会机构、大学和企业开放，提供项目合作、人员培训、开发设计和微纳加工等服务。平台现有一支约20人的专业队伍对设备进行日常管理、操作和维护。微纳工艺与表征平台为国家重大战略需求服务，解决卡脖子的关键器件和芯片国产化问题；保障研究中心承担的科研项目有实施的条件和平台；为科研成果的转化服务，作为科研平台，使得芯片从理论走向实践，为中国光谷，乃至全国的相关单位的研发提供服务。
三、设备共享效益
等离子增强化学气相沉积系统支撑的重大科研项目有13项，项目总经费超2.3亿元。为校内外用户提供介质膜沉积服务，取得了显著的成效。
1、服务校内成果。有课题组利用等离子增强化学气相沉积，制备介电材料超表面实现的超密集集成多维光学系统，相关成果发表在《Laser & Photonics Reviews》（《激光与光子学评论》）上。
2、服务校外成果案例。微纳工艺与表征平台的等离子增强化学气相沉积等工艺设备为北京大学相关研究团队提供微纳器件加工服务，进行氧化物半导体薄膜沉积和超短沟道曝光工艺。相关工作成果发表于《Science Advances》上。
3、微纳工艺与表征平台依托湖北省科技厅科技创新平台，聚焦用户需求，发布各类工艺开发设计、微纳加工、委托实验及技术培训等服务。为多家用户提供微纳加工服务，解决了企业研发难题，相关成果应用与新冠治疗药物筛选、纳米光栅虚拟现实（AR）眼镜等方面。
