微纳平台开展新III_V族感应耦合等离子体刻蚀机（ICP）及原子层刻蚀（ALE）讲座与培训活动

       为更好地了解科学仪器性能，服务于师生的科研工作，微纳工艺与表征平台于3月8日邀请了英国Oxford Instrument公司应用工程师黄志登来校进行了感应耦合等离子体刻蚀机的验收讲座与培训活动。

       黄工首先对2022年新上线的PTIQ软件的常用功能进行介绍和演示，并以ALE功能为例，从基础的各项同性纯化学腐蚀，到等离子体及保护气体实现的各项异性刻蚀，进而推移到单loop刻蚀深度2-8埃米尺度的ALE工艺进行了详细深入的讲解。ALE是一种先进的刻蚀技术，可以针对较浅的微结构进行出色的深度控制。ALE具有低损伤、高选择比、准确的深度控制、低功率工艺，能够在ALE模式或者正常刻蚀模式下进行刻蚀等诸多优势。随着器件微结构尺寸越来越小，要达到器件的更高性能可以通过ALE技术所具有的精度来实现，在高端纳米器件工艺中得到了广泛的应用。

      通过本次讲座培训，使师生们对该仪器有了更深入的了解，有助于提高设备的使用效率和稳定性。