类型设备型号设备名称产地国生产公司名称性能指标用途光刻VISTEC EBPG 5000PES电子束光刻系统美国荷兰VISTEC LITHOGRAPHY加速电压：50kV与100kV；束电流：100pA~100nA；扫描频率：25GHz；最小束斑直径：2.2nm；最小特征尺寸：8nm；写场拼接误差：20nm；套刻误差：20nm；可加工2～4寸晶片及碎片可进行十纳米级特征尺寸的光刻,可应用于光电子、半导体、微纳机械等领域的相关研究中的微纳加工，如集成光学、光电子器件、半导体器件...

武汉光电国家研究中心打造升级版“微纳工艺与表征平台”微纳工艺与表征平台将在现有硬件设备和工艺能力的基础上，依托集成光子学、光子辐射与探测、光电信息存储等三个研究部，重点建设三条光电子器件工艺线、表征测试平台和超算平台，包括以硅基光互连为代表的硅基光电子器件工艺线；以通信用高速光收发模块为代表的三五族化合物半导体光电子器件工艺线；以新体制二维材料光电子器件为代表的多材料体系混合光电子器件工艺线。...

微纳平台预计暑期（2021年8月份）可能会搬迁，请各课题组清理超净间内存放的物品、整理箱，尽量在放假前搬走，以免在搬迁过程中损坏或者遗失