MA8 BA8掩膜对准紫外光刻机

加工2英寸以下的碎片和2/4/6/8英寸圆片；

支持软接触/硬接触/接近/真空等曝光模式；

光强均匀性（8英寸内）优于2.5%；

波长：350-450纳米；

显微物镜：5倍，10倍。

最高分辨率： 0.7微米

正反面对准精度：背面 小于1.0微米，正面小于0.5微米

曝光面积：8英寸

背面对准：可见光 曝光

均匀性：8英寸范围内小于2.5%

曝光模式：软接触，硬接触，真空接触，接近式 具有计算机辅助对准的功能。