当前位置: 首页 > 设备共享 > 薄膜沉积 > 正文
作者: 时间:2022-10-26 浏览:
名称
8英寸磁控溅射镀膜机
型号
JCPY600
制造商
北京泰科诺科技有限公司
主要功能
平台提供以下材料的靶材:Al、Cr、Ni-Cr(80Ni:20Cr wt%)、Ti、Cu、SiO2、W。其他材料请自备靶材。
技术指标
样品托盘为8英寸,4英寸。溅射面积最大为8英寸。靶材尺寸为直径100毫米。现有靶材Cr。气体:氩气,氧气,氮气。溅射方式:直流/射频。4靶位。衬底可加热500℃。
上一篇:低压化学气相沉积系统 LPCVD
下一篇:原子层沉积ALD
Copyright © 2021 武汉光电国家研究中心微纳工艺与表征平台