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中文名：光学镀膜机 |
英文名：Optical Thin Film Coater |
仪器型号：OTFC-900 DBI |
设备分类：薄膜沉积 |
房间： |
负责人：徐巍 |
生产厂家：
日本Optorun
仪器介绍：
OTFC系列是用于生产红外截止滤光片、分色滤光片等成膜的真空镀膜装置。
主要功能：
介质膜及金属膜光学元件镀膜。
设备参数：
真空室尺寸：直径 900mm，高度 1345mm
粗抽真空：从大气压到 10Pa，10min 以内
极限真空：低于 7.0E-5Pa
最大设定温度: 摄氏 350℃ 加热 40 分钟以内，能到达摄氏 300℃
基板旋转旋转机构（光学监控和水晶控制一体式）中心驱动
旋转速度调整范围: 10～30rpm
DOME 尺寸：φ790mm*SR870
可使用衬底尺寸：8英寸圆片向下兼容
双枪双坩埚：环状坩埚机构：φ302×φ228×H15mm 环状、材质 Cu
坩埚旋转速度：10min/圈～130min/圈
点式坩埚机构：12 点点坩埚式、材质 Cu 1 坩埚衬圈：外径 φ40×H17mm、材质 Cu
射频离子源：（OPTORUN 制：OIS-Four,10cm）栅网尺寸：10cm
最大射频功率：600W（13.56MHz）
束电圧：100V～1500V 最大束电流：500mA
离子流密度分布：±10%以内（在 OPTORUN 的设定条件内）
加速电压：100V～1000V
标准导入气体量：氧气 30sccm 或氩气 15sccm 2)
射频中和器(OPTORUN 制： RFN-1Af)
最大射频功率：150W（13.56MHz）
最大中和電流：1500mA
标准导入气体量：氩气 8sccm
配备60点光学监控和6点水晶监控
工艺参数：
蒸镀材料 ： TiO2（OS50）/SiO2
基板 ： BK7，φ30mm
成膜内容 ： 16层 Edge Filter(SWPF),λ(T=50%) 550nm
波长漂移 ： T=50% ±5.0nm以内
测试点 ： 沿着半径方向均匀选用4个测试点
成膜条件 ： 离子辅助IAD
光谱均匀性：±1%。
可见光波长范围内(420-700nm)AR膜平均反射率＜0.4%
单层TiO2:波长390~1000nm, 折射率n:2.67~2.27
单层SiO2:波长390~1000nm, 折射率n:1.49~1.46
价格：
校外：700元/60分钟
校内：1000元/60分钟
单位预约时间：1小时起约
状态：正常
