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中文名：椭圆偏振光谱仪-椭偏仪 |
英文名：Ellipsometer |
仪器型号：RC2 |
设备分类：测试设备 |
房间：D111 |
负责人：许 蔚/叶倩玉 |
生产厂家：
美国J. A. WOOLLAM公司
仪器介绍：
椭偏仪是一种探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。已知入射光的偏振态，偏振光在样品表面被反射，测量得到反射光的偏振态、幅度、相位，拟合得出材料的折射率和消光系数等光学常数信息。可测的样品包括大块材料、薄膜以及在平面基底上生长或沉积的多层结构。由于与样品非接触，对样品没有破坏并且也不需要真空，因此是一种应用非常广泛的测量设备，应用领域包括半导体、电子通讯、数据存储、光学镀膜、科研以及生物医药等；
主要功能：
1)测量对象包括金属、半导体、介电材料、有机高分子聚合物、绝缘体、磁性材料、各项同性和各向异性材料等，
2) 椭偏仪RC2能够进行薄膜材料的厚度分析和各种光电材料的光学常数分析（折射率n和消光系数k）；
技术指标：
光谱范围：210nm-2500nm；微光斑直径：150μm；入射角度：45度-90度；自动变角，自动俯仰，自动样品台，样品台直径：200mm。
参数测试准确性：在直射状态下，测量光束Psi＝45°±0.03° ，Delta=0°±0.08°；退偏振：0%±0.5%；膜厚重复性优于0.005nm（30次SiO2厚度测量的标准偏差，样品为约25nm热生长SiO2的硅片）；15个归一化穆勒矩阵元。
注意事项：
1.确保样品上下表面平整，确保被测表面光滑，测试时能有反射光束被接收；
2.确保被测区域面积大于5mm2；
3.多层膜结构测量时，需提供基底和层层递进的每个样品模型；
4.金属膜厚度测量不能超过30nm；
5.非透明衬底上生长的金属膜测量时，需提供中间膜层300-1000nm热氧SiO2 的样片；
价格：
校内：350元/小时
校外：470元/小时
单位预约时间：30(单位:分钟)
设备上线时间：2023.6.16
状态：正常
其它细节图/成品图：
设备大图：
