名称钨灯丝SEM型号EVO-10制造商蔡司主要功能形貌分析技术指标分辨率：二次电子：3nm（30kv）；背散射电子像：4.5nm（30kv

名称高分辨透射电子显微镜型号Tecnai   G2 20 U-Twin制造商美国FEI公司主要功能形貌分析:获得非晶材料的质厚衬度像，多晶材料的衍射衬度像和单晶薄膜的相位衬度像(原子像)。结构分析：电子衍射，原子位错，孪晶类型，晶界结构等研究。成分分析：小到纳米尺度的微区或晶粒的成分分析。技术指标1.LaB6灯丝或钨灯丝2.点分辨率U-TWIN 0.19nmS-TWIN 0.24nm ; TWIN 0.27nm3.加速电压 20-200kV,连续可调4.放大倍数 25x - 1100kx5.样品...

名称热场发射扫描电镜型号Nova   NanoSEM 450 FP2053/45制造商捷克FEI公司主要功能以波长极短的电子束聚焦后在样品表面扫描，接收从样品表面激发出的二次电子信号成像。主要用于观察固体表面的形貌，也能与EBSD或电子能谱仪相结合，构成电子微探针，用于物质成分分析。此电镜可对导电率小的材料分析， 还可进行环境气氛下材料研究。技术指标分辨率： 高真空成像，0.8   nm @ 30kV (STEM) 1.0 nm @ 15 kV (TLD-SE) 1.4 nm @ 1 kV...

名称扫描电镜/聚焦离子束电镜系统型号Quanta   3D FEG SEM/FIB制造商美国FEI公司主要功能SEM/FIB双束系统主要用于在金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构。同时，配备纳米机械手之后，可以定点制备TEM样品，此仪器是探索决定物质表观特性微观本质的强有力工具。技术指标FIB最大束流达到65nA扫描电镜电子束流最大200nA环境扫描(ESEM)技术: 高真空， 低真空和环境真空三种真空模式1kV分辨率(高真空)   2.9nm...

MA8 BA8紫外曝光机                管理员：黄光/张广学                工艺类别：光刻                所属单位：华中科技大学                状态：正常价格：校外：800元/60分钟，校内：600元/60分钟                单位预约时间：30(单位:分钟)型号、参数及用途                曝光分辨率0.7微米，套刻精度正面0.3微米，背面0.5微米。光刻机/双面对准/最低分辨率0.7微米/加工尺寸：碎片-8英寸                主要技术...

微纳平台正在开展新超净间的建设，位于新光电信息大楼D区一楼，公共开放区域面积约2000㎡

为了进一步促进平台大型仪器设备的开放共享，提高平台的科研服务能力与水平，现对在平台进行科研实验并发表的学术论文，制定资助暂行办法，细则如下。1. 奖励对象使用光电子微纳制造工艺平台开放共享仪器设备进行科研实验，在统计年度里发表，并在致谢部分致谢微纳平台的SCI 学术论文（已正式出版的）。作者可以是教师、学生或微纳平台其他用户。2. 奖励标准微纳平台根据论文的数量、分类和影响因子，每年度制定相应的奖励标准...

新闻网讯（记者 范千）3月9日，教育部召开党史学习教育动员大会。教育部党组书记、部长、部党史学习教育领导小组组长陈宝生作动员讲话。会议以视频形式召开，我校在梧桐语问学中心明德报告厅设置分会场，教育部高校党建工作联络员王传中、全体在校校领导参加会议。记者 辛国胜 摄陈宝生阐述了开展党史学习教育活动的重要意义，强调要准确把握党史学习教育的目标要求和重点内容。一是准确把握目标要求。把握“学党史、悟思想、办...